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トライアルレビューの振り返りをしました

2019/4/2 特許翻訳の勉強

トライアルレビューで取り上げられた文章を訳した後で、ビデオを見て復習しました。その中で、自分に欠けているもの、身に付けなくてはならないものな...

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CMPで使用する研磨組成物に関する特許明細書

2019/3/18 特許明細書

CMP(化学機械平坦化)で使用する研磨組成物に関する特許明細書を紹介します。 化学機械平坦化とは、研磨剤(スラリー)を用いて、ウェハの...

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「IBM社レジスト特許」で学ぶ半導体プロセス工程(3)

2019/2/17 特許明細書

特許明細書「特開平6―95385 、深-UV、I-線またはE-ビームリソグラフ用の新規シリコン含有ネガレジスト」の第3回目です。 今回...

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「IBM社レジスト特許」で学ぶ半導体プロセス工程(2)

2019/2/11 特許明細書

引き続き、「特開平6―95385 、深-UV、I-線またはE-ビームリソグラフ用の新規シリコン含有ネガレジスト」の明細書にある製造工程につい...

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「IBM社レジスト特許」で学ぶ半導体プロセス工程(1)

2019/1/27 特許明細書

ただいま、「IBM社レジスト特許を読む」のビデオを視聴しながら、半導体プロセスの勉強に悪戦苦闘中です。 講座で取り上げられている明細書...

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