
トライアルレビューの振り返りをしました
トライアルレビューで取り上げられた文章を訳した後で、ビデオを見て復習しました。その中で、自分に欠けているもの、身に付けなくてはならないものな...
トライアルレビューで取り上げられた文章を訳した後で、ビデオを見て復習しました。その中で、自分に欠けているもの、身に付けなくてはならないものな...
CMP(化学機械平坦化)で使用する研磨組成物に関する特許明細書を紹介します。 化学機械平坦化とは、研磨剤(スラリー)を用いて、ウェハの...
特許明細書「特開平6―95385 、深-UV、I-線またはE-ビームリソグラフ用の新規シリコン含有ネガレジスト」の第3回目です。 今回...
引き続き、「特開平6―95385 、深-UV、I-線またはE-ビームリソグラフ用の新規シリコン含有ネガレジスト」の明細書にある製造工程につい...
ただいま、「IBM社レジスト特許を読む」のビデオを視聴しながら、半導体プロセスの勉強に悪戦苦闘中です。 講座で取り上げられている明細書...